您當前所在位置：首頁>什么是擴散爐？它有什么用處？

新聞資訊列表

新聞推薦

化工設(shè)備哪些是常用材料

化工生產(chǎn)過程的工藝條件非常復雜，壓力范圍從真空到高壓甚至

化工設(shè)備檢測方法

1、設(shè)備巡檢的五字經(jīng)是：聽、摸、查、看、聞。2、潤滑管理中

化工設(shè)備防腐控制的措施

由于化工設(shè)備的特點，腐蝕經(jīng)常發(fā)生。因此，在化工設(shè)備的設(shè)計

化工設(shè)備注意事項

化工行業(yè)大量使用的化工設(shè)備反應(yīng)釜，由于介質(zhì)的腐蝕性、反應(yīng)

聯(lián)系我們

常州市今爾達機械制造有限公司

聯(lián)系人：孫 13584562705

18151999799

電話：0519-83852326

傳真：0519-83852326

Q Q：1255412836

郵箱：stfhack@gmail.com

地址：鐘樓區(qū)五星街道新新村委工業(yè)園路98號新新工業(yè)園9號樓

什么是擴散爐？它有什么用處？

發(fā)布時間：2020-12-07 點擊次數(shù)：次

擴散爐是集成電路生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一，它的主要用途是對半導體進行摻雜，即在高溫條件下將摻雜材料擴散入硅片，從而改變和控制半導體內(nèi)雜質(zhì)的類型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區(qū)域。

雖然某些工藝可以使用離子注入的方法進行摻雜，但是熱擴散仍是*主要、*普遍的摻雜方法。硅的熱氧化作用是使硅片表面在高溫下與氧化劑發(fā)生反應(yīng)，生長一層二氧化硅膜。氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氫氧合成）兩種，擴散爐是用這兩種氧化方法制備氧化層的必備設(shè)備。

擴散爐是半導體集成電路工藝的基礎(chǔ)設(shè)備，它與半導體工藝互相依存、互相促進、共同發(fā)展。

您可能對此也感興趣