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什么是擴(kuò)散爐呢?
發(fā)布時(shí)間:2020-03-30    點(diǎn)擊次數(shù):次   

什幺是擴(kuò)散爐呢?



擴(kuò)散爐是半導(dǎo)體器件及大規(guī)模集成電路制造過程中用于對晶片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝的一種熱加工設(shè)備。

1、可保存多條工藝曲線,每條曲線可設(shè)置多步。

2、工藝曲線的自動運(yùn)行控制功能。

3、自動運(yùn)行中可暫停/繼續(xù)運(yùn)行功能。

4、工藝中可強(qiáng)制跳到下一工藝步運(yùn)行功能。

5、智能升降溫斜率控制功能。

6、系統(tǒng)故障的檢測與報(bào)警功能。

7、系統(tǒng)誤差修正(單點(diǎn)或多點(diǎn)動態(tài)修正功能)。

擴(kuò)散爐用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導(dǎo)纖維等行業(yè)的擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。較新的低壓磷擴(kuò)散利用低壓氛圍可以得到更好的方塊電阻均勻性和更大的生產(chǎn)批量,擴(kuò)散爐生產(chǎn)廠家,同時(shí)對環(huán)境的影響比較小。氧化工藝是使硅片表面在高溫下與氧化劑發(fā)生反應(yīng),生長一層二氧化硅膜。氧化方法有干氧和濕氧,濕氧包括水汽氧化和氫氧合成兩種。


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